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    [期刊]   李学龙   徐兴文   徐斌骁   《新型工业化》    2021年9期      共2页
    摘要 : 磁控溅射是工业镀膜的主要技术之一.磁控溅射镀膜因为高速低温、成膜质量好、对基片损伤小,易于工业化生产等特点成为广泛关注的技术.但磁控溅射镀膜对其工艺参数要求相对严格,需采取合适的溅射功率、沉积时间、真空度、靶基距等.文章简述了磁控溅射的... 展开
    关键词 : 溅射参数   镀膜   磁控溅射  

    [期刊]   李学瑞   武文革   安春华   成云平   刘丽娟   隋安平   《工具技术》    2017年7期      共3页
    摘要 : 利用直流磁控溅射的方法制备Ni80Cr20合金薄膜,以氩气流量、氩气工作压强、溅射功率作为三因素进行正交试验,在溅射时间相同的条件下分别测试了薄膜厚度、表面粗糙度、电阻率并进行了极差分析.分析结果表明:在一定范围内,氩气工作压强与溅射功率对薄膜... 展开

    [期刊]   张睿   《教育教学论坛》    2012年38期      共2页
    摘要 : 溅射工艺中衬底的温度参数是形成良好台阶覆盖的重要因素,本文通过实验对不同温度下铝膜的台阶覆盖情况进行实验研究,从而总结出铝膜溅射工艺中符合工艺要求的温度参数情况.
    关键词 : 蒸发   溅射   温度参数  

    [期刊]   张睿   《教育教学论坛》    2012年14B期      共2页
    摘要 : 溅射工艺中衬底的温度参数是形成良好台阶覆盖的重要因素,本文通过实验对不同温度下铝膜的台阶覆盖情况进行实验研究,从而总结出铝膜溅射工艺中符合工艺要求的温度参数情况。
    关键词 : 蒸发   溅射   温度参数  

    [期刊]   赵印中   许旻   李林   何延春   王洁冰   吴春华   邱家稳   《真空与低温》    2008年3期      共3页
    摘要 : 通过先后调整溅射沉积时间、溅射功率以及溅射气压等镀膜参数,然后结合所镀样品的反射牢测量,分析了镀膜参数对铝膜反射率的影响;通过调整不同的离子柬清洗时间,结合所镀样品的太阳光谱反射率测量以及附着力测试,研究了离子束清洗对铝膜性能的影响.结... 展开

    [期刊]   肖惠   郭兴峰   王西山   《纺织学报》    2010年5期      共4页
    摘要 : 为研究磁控溅射对纺织材料性能的影响,利用JPGF-450I型磁控溅射镀膜机,以锦纶织物为基材,制备纳米铝膜.通过改变溅射功率、工作压强等工艺参数,获得在不同工艺条件下的镀铝膜锦纶织物,测试镀膜后锦纶织物中纱线的断裂强度、断裂功等拉伸性能,研究溅射... 展开
    关键词 : 磁控溅射   铝膜   锦纶   拉伸性能   溅射参数  

    [期刊]   范文娟   邹敏   常会   霍红英   万书权   《材料热处理学报》    2015年4期      共5页
    摘要 : 利用磁控溅射法在FTO玻璃上制备了SnS薄膜.采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和紫外可见分光光度计对不同溅射参数下制备的SnS薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性能进行研究,确定出制备SnS薄膜的最优溅射参数.结果表明:溅射功率为28 W,沉积气压在2.5 Pa... 展开

    北大核心 CSCD CSTPCD
    [期刊]   李颂战   杨艳芹   刘文琮   章天金   祁亚军   《化学物理学报》    2007年6期      共5页
    摘要 : 采用射频磁控溅射法在石英衬底上沉积了纳米BST(Ba0.65Sr0.35TiO3)薄膜.为了制备优质的BST薄膜,借助X射线衍射仪、场发射扫描电镜和原子力显微镜研究了BST薄膜的晶化行为和显微结构.结果显示在衬底温度600℃下制备的BST薄膜经700℃退火处理后,具有较强... 展开

    [期刊]   李小刚   唐晓东   《光子学报》    2009年2期      共5页
    摘要 : 采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/Ar流量比的增大而减小;热退火后,折射率增大而消光系数下降了50%;溅射功率越大折射率也越大,而工作气压越大折射率反而越... 展开
    关键词 : 光学常数   NiOx薄膜   溅射参数  

    [期刊]   郝正同   谢泉   杨子义   《贵州大学学报(自然科学版)》    2010年1期      共5页
    摘要 : 磁控溅射法是制备薄膜材料的重要手段,薄膜属性受其制备参数的制约,诸参数相互关联,共同影响薄膜的沉积、成核及生长.本文在简要介绍了磁控溅射制备薄膜的基本原理及基本流程的基础上,讨论了溅射参数影响薄膜属性的基本规律和作用机理,并简述了使用磁... 展开

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