[期刊]
  • 《真空与低温》 2008年3期

摘要 : 通过先后调整溅射沉积时间、溅射功率以及溅射气压等镀膜参数,然后结合所镀样品的反射牢测量,分析了镀膜参数对铝膜反射率的影响;通过调整不同的离子柬清洗时间,结合所镀样品的太阳光谱反射率测量以及附着力测试,研究了离子束清洗对铝膜性能的影响.结... 展开

作者 赵印中   许旻   李林   何延春   王洁冰   吴春华   邱家稳  
作者单位
英文名称 PREPARATION OF ALUMINUM THIN FILM BY MAGNETRON SPUTTERING
期刊名称 《真空与低温》
期刊英文名称 《Vacuum and Cryogenics》
页码/总页数 164-166 / 3
语种/中图分类号 汉语 / TB43  
关键词 磁控溅射   铝膜   溅射参数   离子束清洗  
机标主题词 / 分类号 铝膜;溅射;磁控溅射 / TG17;TG17;TG17
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