摘要: 该文以部分相干成像理论为基础,对光瞳滤波技术提高光刻分辨率的物理机理进行了深入的研究,提出利用模拟退火算法求解滤波器的思想,建立数学模型并利用Visual C++和Matlab语言编制软件,根据不同的掩模图形及不同的曝光条件求解相应的最成滤波器.通过模... 展开 该文以部分相干成像理论为基础,对光瞳滤波技术提高光刻分辨率的物理机理进行了深入的研究,提出利用模拟退火算法求解滤波器的思想,建立数学模型并利用Visual C++和Matlab语言编制软件,根据不同的掩模图形及不同的曝光条件求解相应的最成滤波器.通过模拟分析,得到光瞳滤波技术提高光刻分辨率的模拟结果;在理论和模拟研究的基础上,设计并建立了光瞳滤波缩小投影光刻实验系统,开展了投影光刻曝光实验研究,对光瞳相滤波提高光刻分辨率的光刻工艺条件进行了研究,并应用一种抗蚀剂作为相移器的新方法来制作相移滤波器.实验结果表明,相移滤波能显著提高系统的光刻分辨率,在投资光刻系统曝光波长为g(436nm),成像物镜数值孔么为0.5情况下,可将实验系统的光刻分辨率提高到0.35μm. 收起