摘要 : 离轴照明技术(OAI)是极紫外光刻技术中提高光刻分辨率的关键技术之一.为了实现考虑掩模阴影效应情况下离轴照明的优化选择,构造了一种新型实现OAI曝光的成像模型.将照射到掩模上的非相干光等效为一系列具有连续入射方向的等强度平行光,基于阿贝成像原... 展开
| 作者 | 王君 金春水 王丽萍 卢增雄 |
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| 作者单位 | |
| 英文名称 | Study on the Off-Axis Illumination for Extreme Ultraviolet Lithography |
| 期刊名称 | 《光学学报》 |
| 期刊英文名称 | 《Acta Optica Sinica》 |
| 页码/总页数 | 140-145 / 6 |
| 语种/中图分类号 | 汉语 / O434.2 |
| 关键词 | X射线光学 极紫外光刻 分辨率增强 离轴照明阴影效应 光刻胶 |
| DOI | 10.3788/AOS201232.1211003 |
| 基金项目 | 国家科技重大专项资助课题 |
| 收录情况 | BDHX CSCD CSTPCD |
| 机标主题词 / 分类号 | 掩模;离轴照明;光致抗蚀剂 / TN305;TN305;TN405 |
