摘要 : Исследован процесс формирования тонких пленок системы Ni-Mn-O методом молекулярного наслаивания при эквивалентном напуске мет... 展开 Исследован процесс формирования тонких пленок системы Ni-Mn-O методом молекулярного наслаивания при эквивалентном напуске металлоорганических реагентов. В качестве исходных реагентов использовались бис(циклопентадиенил)никеля (NiCp_2) итрис(2,2,6,6-тетраметил-3,5-гептандионато)-марганца(III) [Mn(thd)_3], для формирования кислородсодержащих структур применялась кислородная плазма. Установлено, что средний прирост за цикл покрытия системы Ni-Mn—O выше, чем значение прироста толщины покрытия за один цикл, рассчитанное исходя из известных приростов толщины покрытия за один цикл NiO и МП2О3. Показано, что при эквивалентном напуске содержание никеля в покрытии превышает содержание марганца. Было установлено, что высокая кулоновская эффективность (100%) полученных образцов, где в качестве электрода использовалось покрытие системы Ni-Mn-O на стали (подложка), объясняется высокой обратимостью электрохимических процессов, протекающих при циклических зарядно-разрядных испытаниях. При увеличении силы тока разряда в 80 раз разрядная емкость снижается менее чем на 30%. 收起