尊敬的各位读者：
根据当前疫情防控要求，我馆部分原文传递服务可能会有延期，无法在24小时内提供，给您带来的不便敬请谅解！
国家工程技术图书馆
2022年11月29日
摘要: 抛光液是化学机械抛光系统中主要组成部分,它的性能及成份与材料去除率和表面质量密切相关.本文以HNO3为pH值调节剂,研究了H2O2、FeCl3两种常用氧化剂的抛光液抛光时pH对材料去除率和表面粗糙度的影响,研究结果表明:在超精密化学机械抛光中,不锈钢化学... 展开 抛光液是化学机械抛光系统中主要组成部分,它的性能及成份与材料去除率和表面质量密切相关.本文以HNO3为pH值调节剂,研究了H2O2、FeCl3两种常用氧化剂的抛光液抛光时pH对材料去除率和表面粗糙度的影响,研究结果表明:在超精密化学机械抛光中,不锈钢化学机械抛光液的氧化剂、pH值对抛光后不锈钢表面的材料去除率影响较大;相同条件下,以硝酸作为pH值调节剂时材料去除率随pH值的增大而降低;酸性条件下化学机械抛光不锈钢时,FeCl3氧化剂的抛光液比双氧水氧化剂的抛光液能获得更大的材料去除率.本文研究结果可为SUS304不锈钢酸性化学机械抛光液的研究提供参考依据. 收起
系统维护，暂停服务。
根据《著作权法》“合理使用”原则，您当前的文献传递请求已超限。
如您有科学或教学任务亟需，需我馆提供文献传递服务，可由单位单位签署《图书馆馆际互借协议》说明情况，我馆将根据馆际互借的原则，为您提供更优质的服务。
《图书馆馆际互借协议》扫描件请发送至service@istic.ac.cn邮箱，《图书馆馆际互借协议》模板详见附件。
根据《著作权法》规定， NETL仅提供少量文献资源原文复制件，用户在使用过程中须遵循“合理使用”原则。
您当日的文献传递请求已超限。
