[会议]2011中国材料研讨会论文集  李苗苗, 常方高, 李超, 夏存军, 王天兴, 王纪浩, 孙梦博

摘要: 本文采用共溅射方法制备CIS和CIGS薄膜,分别利用XRD,SEM,EDS对这一新方法制备的薄膜的微观晶体结构,表面形貌和薄膜成分进行分析。结果发现,通过CuIn和Se两靶共溅射方法可以制备出具有单一黄铜矿相结构的CIS薄膜,且改变衬底和退火温度,能够进一... 展开

作者 李苗苗   常方高   李超   夏存军   王天兴   王纪浩   孙梦博  
作者单位
文集名称 2011中国材料研讨会论文集
出版年 2011
会议名称 2011中国材料研讨会  
组织单位 中国材料研究学会  
页码 1-8 开始页/总页数 1 / 8
会议日期/会议地点 2011-05-18 / 北京 会议年 2011
中图分类号 TM914.42  
关键词 铜铟硒薄膜   铜铟镓硒薄膜   磁控溅射   晶体结构   衬底温度   退火温度  
馆藏号 DZ01150
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