摘要: 该文通过电位阶跃方法对硼酸以及Ce<'4+>、Nd<'3+>作用下的镍电沉积过程初期行为进行研究，结果表明硼酸作用下镍电结晶按瞬时成核和三维生长方式进行，同时硼酸对晶体的生长过程具有明显的阻化作用，加入Ce<'4+>、Nd<'3+>后镍电结晶仍按瞬时成核和三... 展开
| 作者 | 黄令 | ||
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| 作者单位 | |||
| 文集名称 | 中国电子学会电镀专业委员会第七届电镀年会论文集 | ||
| 出版年 | 1998 | ||
| 出版社/出版地 | 中国电子学会 / 北京 | ||
| 会议名称 | 中国电子学会电镀专业委员会第七届电镀年会 | ||
| 组织单位 | 中国电子学会 | ||
| 页码 | 152-155 | 开始页/总页数 | 152 / 4 |
| 会议日期/会议地点 | 1998-11 / 合肥 | 会议年/会议届次 | 1998 / 7 |
| 中图分类号 | TQ153 | ||
| 关键词 | 镍电结晶 | ||
| 机标主题词 | 镍;硼酸;电结晶 | ||
| 机标分类号 | O614;O611.63;O799 | ||
| 馆藏号 | H043548 | ||
