摘要: 本文以武运粳7号为材料，从H2O2对Cd胁迫下水稻幼苗生长的影响、幼苗体内氧化损伤、细胞膜损伤、Cd在幼苗体内积累与分布以及Cd胁迫后矿质元素的吸收等方面来阐明H2O2对水稻Cd毒害的缓解机制，主要得到以下结果： 1、100μmol/L Cd处理明显抑制了水... 展开 本文以武运粳7号为材料，从H2O2对Cd胁迫下水稻幼苗生长的影响、幼苗体内氧化损伤、细胞膜损伤、Cd在幼苗体内积累与分布以及Cd胁迫后矿质元素的吸收等方面来阐明H2O2对水稻Cd毒害的缓解机制，主要得到以下结果： 1、100μmol/L Cd处理明显抑制了水稻幼苗株高和生物量的积累，降低了水稻体内CAT、APX、SOD活性和可溶性蛋白含量，提高了POD活性，导致体内MDA、脯氨酸含量积累。外源H2O2处理可以不同程度的缓解Cd对水稻幼苗生长的毒害作用，10μmol/L H2O2浓度处理效果最佳。 2、Cd处理降低了水稻叶中叶绿素含量，并对根系活力产生明显的抑制作用，增加细胞壁果胶、半纤维素的含量。H2O2处理可以有效缓解Cd对水稻生长的抑制作用，提高根系活力和叶绿素含量，并使细胞壁果胶和半纤维素含量增加，但H2O2清除剂DMTU的加入使H2O2的缓解作用消失，甚至进一步加重Cd对水稻幼苗生长的抑制程度。 3、H2O2处理提高了Cd胁迫下水稻幼苗体内CAT活性、APX活性、SOD活性、脯氨酸、可溶性蛋白含量、GSH含量、NO含量和NOS活性，但使POD活性、超氧阴离子产生速率、H2O2含量、GSSG、NPT和PC含量降低。但DMTU处理使H2O2的作用消失，还会增重Cd毒害。 4、Cd胁迫下，水稻幼苗体内Cd含量会明显增加，尤其是根中Cd积累量大幅增加；Cd处理可以明显降低水稻幼苗叶、茎和根中Ca、Mn、Mg、Cu和Zn含量。H2O2处理能够明显降低水稻幼苗叶、茎和根中Cd积累量。此外，H2O2处理可不同程度的提高Cd胁迫下水稻幼苗叶、茎、根中Ca、Mn、Mg、Fe、Cu和Zn的含量；而H2O2清除剂DMTU的加入在进一步增加了Cd胁迫下水稻幼苗中，特别是根中Cd含量。 收起