摘要: 热压印结合反应离子刻蚀技术可实现石英材料连续浮雕微光学元件的高精度、高重复性和低成本的批量加工。然而目前基底表面抗蚀剂的连续浮雕热压印技术仍存在以下两个问题:首先连续浮雕压模的使用寿命和填充效果不可兼顾,具体表现在阳模浮雕的尖锐顶... 展开
作者 | 高育龙 | 授予学位单位 | 哈尔滨工业大学 |
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导师 | 金鹏 | 学位 | 博士 |
学科 | 光电信息技术与仪器工程 | 国籍 | CN |
页码/总页数 | 1-128 / 128 | 出版年 | 2010 |
中图分类号 | TN25 | ||
关键词 | 热压印 连续浮雕微光学元件 热 完全填充 干法刻蚀 | ||
机标主题词 | 微光学元件;压印;抗蚀剂 | ||
机标分类号 | TH74;TS194.4;TQ047.6 | ||
馆藏号 | D269076 |