摘要 : 采用目前商用原子比为Ti50Al50的合金靶材,利用磁控溅射工艺,在硬质合金基体上沉积TiAl和TiAlN涂层.借助扫描电镜(SEM),X射线衍射仪(XRD)对Ti,Al元素在靶材和涂层中的存在形式作了分析,利用洛氏硬度试验机和纳米硬度仪对涂层的结合强度和硬度等力学性... 展开
| 作者 | 梁俊才 周武平 张凤戈 穆健刚 赵海波 |
|---|---|
| 作者单位 | |
| 英文名称 | Evolution Analysis of Existing Forms of Ti and Al Elements during Preparation of TiAlN Coating |
| 期刊名称 | 《稀有金属》 |
| 期刊英文名称 | 《Chinese Journal of Rare Metals》 |
| 页码/总页数 | 561-566 / 6 |
| 语种/中图分类号 | 汉语 / TB71+6 TB741 |
| 关键词 | TiAl靶材 TiAlN涂层 磁控溅射 相结构 力学性能 |
| DOI | 10.13373/j.cnki.cjrm.2014.04.004 |
| 基金项目 | 国家自然科学基金项目(51275323);国家科技部科技重大专项项目(2012ZX04003011)资助 |
| 收录情况 | BDHX CSCD CSTPCD |
| 机标主题词 / 分类号 | 靶材;TiAlN涂层;原子 / O78;O57 |
